· 산업재산권
보호대상 | 내용 | 보호법 | 존속기간 |
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발명 | 자연법칙을 이용한 기술적 사상의 창작인 발명을 보호 | 특허법 | 출원일로부터20년 |
고안 | 수명이 짧은 물품의 형상, 구조, 모양에 관한 고안의 보호 | 실용신안법 | 출원일로부터10년 |
디자인 | 물품의 외관에 나타난 디자인의 보호 | 디자인보호법 | 출원일로부터20년 |
상표 | 상품이나 서비스업등을 식별하기 위한 기호, 문자, 도형 등 시각적으로 인식가능하거나 소리,냄새 등 비시각적인 표장을 보호 | 상표법 | 출원일로부터10년 (갱신가능) |
· 저작권
보호대상 | 내용 | 보호법 | 존속기간 |
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저작물 | 저작권(창작물) 및 저작인접권(실연, 방송, 음반제작자의 권리) | 저작권법 | 저작자 사망후 50년 |
컴퓨터프로그램 | 프로그램에 나타난 표현의 보호(하드웨어와 결합시 특허 가능) | 저작권법,특허법 |
· 신지식재산권
보호대상 | 내용 | 보호법 |
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반도체 직접회로 레이아웃 | 현재 MASKWORK의 유사 저작권 보호 | 반도체 직접회로의 회로배치에 관한 법률 |
영업비밀 | 비공지성, 비밀관리성, 유용성 | 부정경쟁방지법 |
데이터베이스 | 창작성 유무에 상관없이 데이터베이스를 구축한자의 노력에 대한 보상 |
저작권법 |
식물신품종 | 식물의 신품종에 대한 육성자의 권리보호,주요작물의 품종성능 관리, 종자의 생산 · 보증 및 유통 등에 관한 사항 규정 |
종자산업법, 특허법 |